您好,欢迎来到魔法化学网!
合作交流
|
服务时间(9:30-18:00)
百科
百科
▼
百科
资讯
搜索
结构式
乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
首页
化合物百科
价格行情
资讯
化工导航
实验室工具
搜索
乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
硅
合成路线
(共 627 条)
7440-21-3
硅
→
反应条件
78-10-4
硅酸四乙酯
反应条件
ethanol in not given SiH4 and C2H5OH in presence of C2H5OLi;;
参考文献
Journal of the American Chemical Society, , vol. 74, p. 1526
64-17-5
乙醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
105-57-7
乙缩醛
+
78-10-4
硅酸四乙酯
+
998-30-1
三乙氧基硅烷
+
75-07-0
乙醛
反应条件
FS1265; SAG.(R). 47; copper (II) hydroxide in THERMINOLreg; 59 T=220°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2007/287850 A1, ;
Page/Page column 12 ;
141-52-6
乙醇钠
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
78-10-4
硅酸四乙酯
反应条件
diethyl ether
参考文献
Zeitschrift fuer Naturforschung, , vol. 6b, p. 116
Si: MVol.C, 119, page 332 - 335
60-29-7
乙醚
+
141-52-6
乙醇钠
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
78-10-4
硅酸四乙酯
+
2157-42-8
焦硅酸六乙酯
反应条件
SiH4 and diethylether; treatment of unknown intermediates with NaOC2H5;;
参考文献
Zeitschrift fuer Naturforschung, , vol. 6b, p. 116
75-00-3
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
115-21-9
+
1789-58-8
反应条件
hydrogen in neat (no solvent) Si, C2H5Cl and an excess of H2 at 300°C and 50 at;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 51, page 146 - 149
75-00-3
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
115-21-9
+
1789-58-8
+
1719-53-5
反应条件
in neat (no solvent) High Pressure; Si, C2H5Cl and a large excess of H2 at 300°C and 50 at;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
Full Text Show Details
Farbenfabriken Bayer
Patent: DE859164 , 1952 ;
C., 1953 , p. 2519
75-01-4
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-54-7
+
75-77-4
+
75-79-6
+
115-21-9
+
75-78-5
反应条件
in neat (no solvent) SiH4 and CH2CHCl at about 400°C; further products;;
参考文献
Fritz, G.
Zeitschrift fuer Naturforschung, 1952 , vol. 7 b, p. 379 - 385
Full Text Show Details
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 44, page 130 - 132
67-56-1
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
+
681-84-5
+
1112-39-6
反应条件
sodium chloride T=150°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WACKER-CHEMIE GMBH
Patent: WO2006/61102 A1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 8-9 ;
67-56-1
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
681-84-5
+
1112-39-6
+
1185-55-3
反应条件
sodium chloride T=30 - 350°C; 1.5 - 4.5 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
WACKER-CHEMIE GMBH
Patent: WO2006/61102 A1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 9-11 ;
67-56-1
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
+
681-84-5
+
1112-39-6
+
1185-55-3
反应条件
sodium chloride T=150 - 200°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WACKER-CHEMIE GMBH
Patent: WO2006/61102 A1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 8-9 ;
首页
上一页
1
...
42
43
44
45
46
47
48
...
63
下一页
末页
到第
页
确定