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| CAS号 : | 76-16-4 |
精确质量 : | 137.99000 |
| 分子式 : | C2F6 |
logP : | 2.11100 |
| 分子量 : | 138.01200 |
PSA : | 0.00000 |
六氟乙烷 | |
hexafluoroethane | |
76-16-4 | |
C2F6 | |
138.01200 | |
0.00000 | |
2.11100 | |
137.99000 |
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1.202
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4.7 (vs air)
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无色气体
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库房通风低温干燥,与易燃物分开存放
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−78 °C(lit.)
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−100 °C(lit.)
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1,607 g/cm3
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430 psi ( 21 °C)
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GHS04 | |
警告 | |
H280 | |
P410 + P403 | |
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KI4110000
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3
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2.2
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S38
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UN 2193 2.2
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Xi
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2933990090
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2933990090. 其他仅含氮杂原子的杂环化合物. 增值税率:17.0%. 退税率:13.0%. 监管条件:无. 最惠国关税:6.5%. 普通关税:20.0% | |
2933990090. heterocyclic compounds with nitrogen hetero-atom(s) only. VAT:17.0%. Tax rebate rate:13.0%. . MFN tariff:6.5%. General tariff:20.0% |
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<p>以活性炭与氟为原料,在装有活性炭的反应炉中缓慢通入高浓氟气,通过控制电加热,供氟速率和冷却反应炉来控制反应温度。反应产物经过除尘、碱洗、脱水后,可获得含CF<br>4、C2F<br>6、C3F8的粗品,然后把粗品混合物进行间歇低温精馏,提取C2F6,再用分子筛进一步进行低温吸附脱水,可获得纯度大于99.7%的C2F6。</p> | |
<p>1.用作绝缘气、等离子蚀刻剂, 高介电强度泠却剂 <br>2.用于微电子工业中作等离子蚀刻气体以及器件表面清洗、光纤生产、低温制冷。</p> |
