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63148-62-9
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硅
合成路线
(共 627 条)
7789-33-5
溴化碘
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
13536-76-0
+
13550-39-5
+
13536-68-0
+
7789-66-4
溴化硅(IV)
+
13465-84-4
碘化硅(IV)
反应条件
in neat (no solvent) distillation of BrI or passing BrI in a H2 stream to crystalline Si near red heat;;
参考文献
Comptes Rendus Hebdomadaires des Seances de l'Academie des Sciences, , vol. 112, p. 1447 - 1449
Si: MVol.B, 275, page 742 - 743
→
反应条件
7789-66-4
溴化硅(IV)
反应条件
above m.p. of AgBr in vac.;
参考文献
Journal of Inorganic and Nuclear Chemistry, , vol. 23, p. 139
Ag: MVol.B2, 7.2.8.5.3, page 113 - 113
7440-44-0
活性炭
+
7429-90-5
铝
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
反应条件
air milling, exposing to air;
参考文献
European Journal of Solid State and Inorganic Chemistry, , vol. 32, p. 629 - 638
75-00-3
乙基氯
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2504-64-5
1,2-二(三氯甲硅基)乙烷
反应条件
chlorine; copper in neat (no solvent) Si-Cu and a mixt. of C2H5Cl and Cl2;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 63, page 177 - 179
107-06-2
二氯乙烷
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
2504-64-5
1,2-二(三氯甲硅基)乙烷
+
10025-78-2
三氯氢硅
+
4109-96-0
二氯硅烷
反应条件
copper in neat (no solvent) Si-Cu (9:1) and 1,2-dichloroethane in presence of N2 at 370-380°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 63, page 177 - 179
7647-18-9
氯化锑(V)
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
10026-04-7
四氯硅烷
+
10025-91-9
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Gmelin Handbook: Sb: MVol.B2, 9.6, page 443 - 447
64-17-5
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
78-10-4
+
998-30-1
反应条件
1,8-dicyanooctane; copper(I) oxide in NALKYLENEreg; 500 T=200°C; 14 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2007/287850 A1, ;
Page/Page column 18 ;
64-17-5
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
78-07-9
+
78-10-4
+
18165-68-9
+
13175-88-7
+
998-30-1
反应条件
copper (I) cyanide; copper(I) oxide in THERMINOLreg; 59 T=200°C; 16 - 18 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
Lewis, Kenrick M.; Cameron, Rudolph A.; Ritscher, James S.; Ritscher, Karen
Patent: US2007/287850 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 17 ;
64-17-5
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
78-10-4
+
18165-68-9
+
13175-88-7
+
998-30-1
反应条件
isopropyl 7-cyanoheptanoate; copper(I) oxide in NALKYLENEreg; 500 T=200°C; 16 h; Nitrogen atmosphere; Product distribution / selectivity;
参考文献
Lewis, Kenrick M.; Cameron, Rudolph A.; Ritscher, James S.; Ritscher, Karen
Patent: US2007/287850 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 19 ;
64-17-5
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
105-57-7
+
78-10-4
+
998-30-1
+
75-07-0
反应条件
FS1265; SAG.(R). 47; copper (II) hydroxide in THERMINOLreg; 59 T=220°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
Lewis, Kenrick M.; Cameron, Rudolph A.; Ritscher, James S.; Ritscher, Karen
Patent: US2007/287850 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 12 ;
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