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乙二醇
甲醛
63148-62-9
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丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
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乙二醇
甲醛
63148-62-9
MDI
丁酮
二甲基亚砜
碳酸氢钠
471-34-1
硅
合成路线
(共 627 条)
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
+
16881-77-9
甲基二甲氧基硅烷
反应条件
copper orthophosphate in THERMINOLreg; 59 T=250°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2007/60764 A1, ;
Page/Page column 15-16 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
反应条件
copper(l) chloride in Marlotherm SH T=180 - 190°C; 3.48333 h; Microwave irradiation; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2008/132721 A1, ;
Page/Page column 5-6 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
16881-77-9
甲基二甲氧基硅烷
反应条件
copper (II) hydroxide in THERMINOLreg; 59 T=250°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
US2007/60764 A1, ;
Page/Page column 16 ;
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
US6090965 A1, ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1112-39-6
反应条件
sodium chloride T=150°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2006/61102 A1, ;
Page/Page column 8-9 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1112-39-6
+
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
反应条件
sodium chloride T=150 - 200°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WO2006/61102 A1, ;
Page/Page column 8-9 ;
80937-33-3
+
7782-50-5
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
31323-44-1
+
67777-49-5
+
56240-64-3
+
42931-29-3
+
14986-21-1
反应条件
in neat (no solvent) reaction of a mixture of Cl2 and O2 (2:1) with Si in a glass tube at red heat; further products;; condensation and fractionation;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 260, page 704 - 707
7440-21-3
硅
→
反应条件
56240-65-4
+
14986-21-1
反应条件
chlorine reaction of Si with 1percent Cl2/Ar gas mixt. at 930°C; mass spectroscopy;
参考文献
Marra; Kreidler; Jacobson; Fox
Journal of the Electrochemical Society, 1988 , vol. 135, # 6 p. 1571 - 1574
75-00-3
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
115-21-9
+
1789-58-8
反应条件
hydrogen in neat (no solvent) Si, C2H5Cl and an excess of H2 at 300°C and 50 at;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 51, page 146 - 149
75-00-3
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
115-21-9
+
1789-58-8
+
1719-53-5
反应条件
in neat (no solvent) High Pressure; Si, C2H5Cl and a large excess of H2 at 300°C and 50 at;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
Full Text Show Details
Farbenfabriken Bayer
Patent: DE859164 , 1952 ;
C., 1953 , p. 2519
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