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乙二醇
甲醛
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碳酸氢钠
471-34-1
硅
合成路线
（共 627 条）
→
反应条件
7440-32-6
钛
反应条件
in electric oven;
参考文献
Gmelin Handbook: Ti: MVol., 5.3.3, page 226 - 255
7440-21-3
硅
→
反应条件
681-84-5
正硅酸甲酯
反应条件
methanol in neat (no solvent) heating of Si at 1050°C in H2-atm. for 2 h in presence of Cu-oxide, Cu-halide or Cu-nitrate; dropwise addn. of CH3OH at 300°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 117, page 329 - 330
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
反应条件
copper (II) hydroxide in THERMINOLreg; 59 T=250°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
Lewis, Kenrick M.; Mereigh, Abellard T.; O'Young, Chi-Lin; Cameron, Rudolph A.
Patent: US2007/60764 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 14-15 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
+
16881-77-9
甲基二甲氧基硅烷
反应条件
copper orthophosphate in THERMINOLreg; 59 T=250°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
Lewis, Kenrick M.; Mereigh, Abellard T.; O'Young, Chi-Lin; Cameron, Rudolph A.
Patent: US2007/60764 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 16 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
16881-77-9
甲基二甲氧基硅烷
反应条件
copper (II) hydroxide in THERMINOLreg; 59 T=250°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
Lewis, Kenrick M.; Mereigh, Abellard T.; O'Young, Chi-Lin; Cameron, Rudolph A.
Patent: US2007/60764 A1, 2007 ;
Location in patent: Page/Page column 16 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1112-39-6
二甲基二甲氧基硅烷
反应条件
sodium chloride T=150°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WACKER-CHEMIE GMBH
Patent: WO2006/61102 A1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 8-9 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1112-39-6
二甲基二甲氧基硅烷
+
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
反应条件
sodium chloride T=30 - 350°C; 1.5 - 4.5 h; Product distribution / selectivity;
参考文献
WACKER-CHEMIE GMBH
Patent: WO2006/61102 A1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 9-11 ;
67-56-1
甲醇
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
2487-90-3
三甲氧基硅烷
+
681-84-5
正硅酸甲酯
+
1112-39-6
二甲基二甲氧基硅烷
+
1185-55-3
甲基三甲氧基硅烷
反应条件
sodium chloride T=150 - 200°C; Product distribution / selectivity;
参考文献
WACKER-CHEMIE GMBH
Patent: WO2006/61102 A1, 2006 ;
Location in patent: Page/Page column 8-9 ;
18024-69-6
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
16940-66-2
硼氢化钠
+
681-84-5
正硅酸甲酯
反应条件
暂无反应条件数据
参考文献
Gmelin Handbook: Na: SVol.3, 3.7, page 1233 - 1245
7440-21-3
硅
→
反应条件
75-79-6
甲基三氯硅烷
反应条件
anhydrous methyl chloride; copper in neat (no solvent) Si-Cu and a mixt. of CH3Cl, H2 and Cl2 at 350°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 42, page 126 - 128
Full Text Show Details
Nissin Chemical Industries Co.
Patent: JP4519 , 1951 ;
C. A., 1953 , p. 9344
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