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359-51-3
合成路线
（共 4 条）
79-38-9
三氟氯乙烯
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
359-51-3
反应条件
copper in neat (no solvent) reaction at 300-450°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.4, 4.1, page 147 - 165
76-13-1
1,1,2-三氯三氟乙烷（CFC-113）
+
7440-21-3
硅
→
反应条件
359-51-3
反应条件
copper in neat (no solvent) passing CF2ClCFCl2 (4 mol, 0.18 - 0.20 mol/h) over a stirred mixture of Si and Cu (1:1 or 3:1) at 200-350°C or 200-400°C;; highest yield at 250-300°C;;
参考文献
Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.4, 4.1, page 147 - 165
79-38-9
三氟氯乙烯
→
反应条件
359-51-3
反应条件
trichlorosilane T=500°C;
参考文献
Dow Corning Corp.
Patent: US2800494 , 1954 ;
79-38-9
三氟氯乙烯
+
10025-78-2
三氯氢硅
→
反应条件
359-51-3
反应条件
in neat (no solvent) heating HSiCl3 and CF2CFCl in a quartz tube at 462-508°C, 3.75 hours;;
参考文献
Mueller, R.; Dressler, M.
J. Prakt. Chem. (4), 1963 , vol. 22, p. 29 - 38
